TJ光學(xué)掩模板蒸鍍掩模板柔性掩膜激光切割 精密加工

    光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。

    待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。其圖形結(jié)構(gòu)可通過制版工藝加工獲得，常用加工設(shè)備為直寫式光刻設(shè)備，如激光直寫光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)等。

    掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng)）等。

掩膜版的分類

透明基板

1、透明玻璃 。石英玻璃（Quartz Glass）蘇打玻璃（Soda-lime Glass）低膨脹玻璃（Low Expansion Glass）

2、透明樹脂

遮光膜

（1）硬質(zhì)遮光膜：鉻膜氧化鐵硅化鉬硅。

（2）乳膠。

材料厚度(公制):

0.03mm,0.05mm,0.08mm,0.06mm,0.1mm,0.12mm,0.15mm,0.18mm,0.2mm

產(chǎn)品特點(diǎn):

激光加工線條均均，無毛剌，無缺口

產(chǎn)品價格:

以材料材質(zhì)、厚度、精度要求、量產(chǎn)數(shù)量綜合核定

加工能力:可大批量加工

樣品提供:

付費(fèi)打樣，樣品3天內(nèi)，快24小時出樣，量大可申請免費(fèi)樣品

梁工